GV10x 順流等離子清洗系統(tǒng)去除碳氫污染的能力是一個巨大突破，超越了使用冷卻捕捉、氮氣吹塵等緩和污染的傳統(tǒng)方法和其它等離子清洗機。GV10x，以其擴展的功率和壓力范圍（5 至 100 瓦 和2 至 <0.005 托） 代表了SEMs和其他真空系統(tǒng)中除碳的經(jīng)典轉(zhuǎn)移。
原子氧和氫可以將表面碳轉(zhuǎn)換成氣相分子然后被泵出到腔體外，而不僅是被固定和捕獲在表面，從而消除污染。SEM腔中低的碳含量使樣品假象比如聚合物沉積得到最小化。
Negative [or positive] charging scan squares & charging artifacts cause critical measurement and observational errors removed and prevented - Courtesy of Infineon on LEO 1550
由于各個儀器的清潔周期不同，可以通過在不同的儀器之間更換GV10x 源將GV10x 應(yīng)用在幾個實驗室工具上。 在GV10x源和儀器真空腔之間放置一個隔離閥，如S-4700 FESEM所示，就可以非常簡易的重新安置GV10x。
隨著納米科學(xué)的進步，電子束聚焦的更好、電子束能量降低、前驅(qū)氣體的使用增加，使得高分辨率日益依賴于將碳污染控制在較低水平。通過遠程或順流等離子工藝消除污染和去污染能夠迅速、簡便和有效地完成這樣的任務(wù)。與普通的“等離子清洗機“中的動力學(xué)濺射、刻蝕清潔不一樣， 順流等離子工藝是一個柔和的化學(xué)刻蝕。這個工藝已經(jīng)革新了在真空腔體中消除碳分子和碳氫化合物的方式。
GV10x DS Asher以較高的原子氧和氫濃度和更少的時間就可以達到同樣精妙的去除污染的效果，因此只需很短的時間就可以得到全新清潔的腔體，非常適合大尺寸的腔體和重度污染的表面。客戶聲稱，使用GV10x可以使整個大型腔體的碳氫水平得到更加有效和均勻的控制，而只需要現(xiàn)存方法的十分之一的時間，同時具有更加好的均勻性。
